SE-VE是一款快速测量光谱椭偏仪，紧凑集成设计，使用简便，可一键快速测量表征各式光学薄膜膜厚以及光学常数等信息。

教学椭偏仪ME-Mapping是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动Mapping测量模块，通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征和分析。

穆勒矩阵光谱椭偏仪ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业前沿的创新技术，穆勒矩阵椭偏仪具备 $n1 全穆勒矩阵测量技术$n2 双旋转补偿器同步控制技术$n3 超级消色差补偿器设计技术$n4 纳米光栅表征测量技术 等技术。

光谱椭偏仪SE-VM 是一款超高精度快速测量光谱椭偏仪，其采用行业*的椭偏创新技术，具备 1 双旋转补偿器同步控制技术，2 透明基底消背反技术 等*技术。快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析，适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度，微光斑，可视化调平系统等高兼容性灵活配置，多功能模块定制化设计

穆勒矩阵光谱椭偏仪是一种常用于测量材料光学性质的实验技术。该技术通过测量材料对入射光的旋转和线偏振状态的影响，以及其对不同波长光的吸收、散射和透射等特性来确定材料的光学性质。

SE-m穆勒矩阵光谱椭偏仪是一款针对半导体行业定制的微区图形结构测量的专用型光谱椭偏仪，其采用行业较新椭偏创新技术，自主独立研发出$n1、超小微光斑探测测量技术$n2、定制超快测量速度等技术。$n可应用透明各类衬底上的减反膜、导电膜等薄膜的n/k/d测量，适用于微区图形的各种光学参数解析。