光谱椭偏仪有哪些应用？

光谱椭偏仪是一种非接触、无损的精密光学表征设备，通过测量偏振光与样品表面相互作用后的偏振态变化，精准推导样品的光学常数、薄膜厚度、晶体结构、组分浓度、表面粗糙度等关键信息，覆盖紫外（UV）、可见光（VIS）、红外（IR）全波段，是半导体、光电、薄膜材料、新能源、微电子等领域的核心表征仪器，适配从原子层厚度到微米级薄膜的精准测试，且对样品无损伤、制样要求低。

光谱椭偏仪的应用领域：

半导体工业：

测量氧化物、氮化物、硅化物等薄膜的厚度和光学常数，优化集成电路制造工艺。

监测光刻胶厚度，确保光刻精度。

光学镀膜：

优化反射镜、透镜、滤光片等光学元件的薄膜设计，提升性能。

新能源材料：

太阳能电池：分析硅片、钝化层、抗反射层等薄膜的厚度和光学常数，提高转换效率。

锂离子电池：表征电极薄膜的厚度和均匀性，优化充放电性能。

燃料电池：测量电解质薄膜的厚度和光学性质，提升效率和耐久性。

微电子与光电子器件：

表征LED、OLED等显示技术中的半导体材料、电介质、有机材料等薄膜特性。

材料科学研究：

分析多晶硅、单晶硅等材料的微观结构。