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详细介绍
一、概述
IRE-200是一款超高精度的外延层厚度测量设备，利用红外光谱经傅里叶变换进行快速分析，主要应用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各类外延片的外延层厚度测量。
■ 单抛/双抛等多种模式选择支持；
■ 自定义mapping功能；
■ 高检测速率：Si标准外延片测量25点≤3min；
■ 高检测精度：≤0.01um 。
二、产品特点
1）设备采用高性能光源模块，光源稳定性好，信噪比高，覆盖范围7800-350cm-1。
2）搭配自主研发算法软件，可精准快速地获取测量结果。
3) 搭配自主研发的mapping运动台，定位精准、测量速度快。
三、产品应用
IRE-200广泛应用于半导体行业中Si、SiC、GaAs、InP、GaN等基底材料上外延层厚度的量测。
SiC EPI量测案例
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