一、概述
ME-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动Mapping测量模块，通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征和分析。
全基片椭偏绘制化测量解决方案；
支持产品设计以及功能模块定制化，一键绘制测量；
配置Mapping模块，全基片自定义多点定位测量能力；
丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力。
二、产品特点
采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)；
高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集；
具备全基片自定义多点自动定位测量能力，提供全面膜厚检测分析报告；
数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料。
三、产品应用
ME-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED，LED，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
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