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首页-产品系统--光谱椭偏仪-ME-L穆勒矩阵椭偏仪

穆勒矩阵椭偏仪

简要描述:穆勒矩阵光谱椭偏仪ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,穆勒矩阵椭偏仪具备
1 全穆勒矩阵测量技术
2 双旋转补偿器同步控制技术
3 超级消色差补偿器设计技术
4 纳米光栅表征测量技术 等技术。

产品型号:ME-L  更新时间:2023-05-15  浏览次数:989

  • 厂家实力

    Manufacturer Strength
  • 有效保修

    Valid Warranty
  • 质量保障

    Quality Assurance

详细介绍

一、概述

ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,具备 

1、全穆勒矩阵测量技术

2、双旋转补偿器同步控制技术

3、超级消色差补偿器设计技术

4、纳米光栅表征测量技术等技术。

穆勒矩阵椭偏仪可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析,代表当今椭偏行业高精尖技术水平。

双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素;

配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块;

软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷;

丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。

二、产品特点

穆勒矩阵椭偏仪采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm);

可实现穆勒矩阵数据处理,测量信息量更大,测量速度快、数据更加精准;

基于双旋转补偿器配置,可一次测量获得全穆勒矩阵的16个元素,相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面测量信息;

颐光核心技术确保在宽光谱范围内,提供优质稳定的各波段光谱;

数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料;

集成对纳米光栅的分析,可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信息。

 

使用颐光科技椭偏仪系列产品,(部分)提及并标注“Eoptics Technology”文献信息:


✽ "Giant in-plane optical and electronic anisotropy in tellurene: a quantitative exploration." Nanoscale(2022).单位:华中科技数字装备制造国家重点实验室,通讯作者:谷洪刚,刘世元 等


✽ "Enhanced light emission of quantum dot films by scattering of poly(zinc methacrylate) coating CdZnSeS/ZnS quantum dots and high refractive index BaTiO3 nanoparticles." ACS Nano (2020).单位:南方科技大学,通讯作者:孙小卫 等


✽ "High performance flexible organic photomultiplication photodetector based on ultra-thin silver film transparent electrode." Nanotechnology (2020).单位:太原理工大学,通讯作者:崔艳霞 等


✽ "Layer-Dependent Dielectric Function of Wafer-Scale 2D MoS2." Advance Optical Materials (2018).单位:华中科技大学数,通讯作者:刘世元 等


✽ "Ellipsometric study of the complex optical constants of a CsPbBr3 perovskite thin film." Journal of Materials Chemistry C(2017).单位:山东大学,通讯作者:连洁 等


 ✽"High-Performance Polymer Tandem Solar Cells Employing a New n-Type Conjugated Polymer as an Interconnecting Layer." Advance Materials(2016).单位:华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室,通讯作者:叶轩立,黄飞 等

应用领域:

可选附件

ME-L穆勒矩阵椭偏仪2.jpg

 

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