SE-VM光谱椭偏仪

一、概述

      SE-VM 是一款超高精度快速测量光谱椭偏仪，其采用自主研发的椭偏创新技术，具备 1 双旋转补偿器同步控制技术，2 透明基底消背反技术 等技术。快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析，适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度，微光斑，可视化调平系统等高兼容性灵活配置，多功能模块定制化设计。

■  高精度椭偏测量解决方案；

■  超高精度、快速无损测量；

■  支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制；

■  丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力。

二、产品特点

■ 采用高性能进口复合光源，光谱覆盖可见到近红外范围 (380-1000nm)，可支持扩展紫外到近红外范围 (193-2500nm)；

■  高精度双旋转补偿器调制、PCrSCrA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集；

■ 支持系列配置灵活，可根据不同应用场景支持多功能模块化定制；

■ 数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料。

三、产品应用

SE-VM广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。

可选配件

技术参数