反射膜厚仪是一种利用光谱反射原理测量薄膜厚度和折射率的精密仪器，广泛应用于半导体制造、光学镀膜、平板显示、太阳能电池等领域。特点：非破坏性测量无需接触或损伤样品，可对成品、半成品进行多次复测，避免样品损耗。高精度与宽量程精度：常规型号±2nm~±5nm；量程：覆盖1nm至数百微米，部分型号支持多层膜测量。快速高效单次测量时间短，简易款约0.1~1秒，分光法约3~5秒，可满足生产线“在线检测”需求。操作便捷内置常见材料的折射率数据库，无需手动输入参数...

穆勒矩阵光谱椭偏仪基于更普适的穆勒-斯托克斯形式主义。它通过系统性地改变入射光的偏振态（由起偏器和可调偏振态发生器实现），并精确测量所有四个斯托克斯参量构成的反射或透射光偏振态（由检偏器和偏振态分析器实现），从而构建出一个4x4的穆勒矩阵M。该矩阵完整描述了样品对入射偏振光的所有改变（强度、偏振度、偏振方向、椭圆率等），包含了远超Ψ和Δ的丰富信息，特别适用于分析具有各向异性、粗糙度、图案化结构或存在去偏振效应的复杂样品。一套典型的穆勒矩阵光谱椭偏仪主要由以下几个关键子系统构成...

在线膜厚仪广泛应用于多个领域，如半导体制造、光学涂层、电池制造、涂料、塑料和金属薄膜等。每个领域的薄膜种类和厚度要求不同，因此对膜厚仪的精度、稳定性、适用范围等要求也各不相同。不同种类的薄膜对膜厚仪的测量性能有着直接的影响。主要影响因素包括薄膜的材料特性、折射率、吸光度、表面平整度等。以下将从几个常见的薄膜种类出发，探讨在线膜厚仪的适用性和限制。1、金属薄膜金属薄膜通常具有较高的反射率，这使得在线膜厚仪能够通过光学干涉法等方法有效地测量其膜厚。金属薄膜如铜、铝、金等材料通常应...

光谱椭偏仪是一种高精度的光学测量仪器，主要用于分析材料的光学性质(如折射率、消光系数)、薄膜厚度(从纳米到微米级)以及表面/界面的微观结构信息。其核心原理是利用光的偏振状态在材料表面反射或透射后的变化，通过解析这种变化反推材料的物理特性，广泛应用于半导体、光学薄膜、纳米材料、生物医学等领域。该设备在操作时可以不接触、无损测量，不破坏样品；厚度测量可达亚纳米级；无需标记或预处理，适用于多种材料。选购光谱椭偏仪时可以关注以下几点：1、光谱范围：根据测量材料的光学特性选择合适的光谱...

膜厚测试仪主要用于测量薄膜或涂层材料的厚度。根据工作原理的不同，可以分为几种类型，常见的有电涡流法、磁性法、X射线荧光法等。这些测试方法依赖于不同的物理原理来进行膜层厚度的测量。电涡流法通常用于非铁金属表面，而磁性法则专门应用于铁磁性材料的膜层测量。无论是哪种类型的膜厚测试仪，都需要一些关键的耗材和附件来保证测量的精度和仪器的长期稳定运行。下面将详细介绍常见的耗材和附件。主要耗材：1.探头与传感器探头和传感器是直接与待测物体表面接触的核心部件。探头根据不同的测量方式，通常分为...